微細加工とレジスト

微細加工とレジスト
著者 高分子学会 編集・ 野々垣 三郎
分野 化学・化学工業  > 高分子化学  > 高分子材料
シリーズ 化学・化学工業  > 高分子新素材One Point 全30巻+別巻 3
発売日 1987/11/15
ISBN 9784320042278
体裁 B6・108頁
定価 1,100円 (本体1,000円 + 税10%)
在庫 品切れ・重版未定
  • この本の
    内容
  • 目次
半導体デバイスを制作する際の微細な加工に、どのようなレジスト(耐食性被膜材料)が使われ、また、新しく開発されているか、現状と将来を展望。
1.レジストを使う微細加工

2.フォトレジスト

3.電子線レジスト

4.X線レジスト

5.将来展望

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