レジスト材料

書籍情報
シリーズ名高分子先端材料One Point 全10巻+別巻 【10】巻
ISBN978-4-320-04372-5
判型B6 
ページ数112ページ
発行年月2005年02月
本体価格1,500円
レジスト材料 書影
レジスト材料

この十数年のパソコンを初めとする電子機器の微細化,高性能化,低価格化には目を見張るものがあるが,この電子革命をもたらしたのが,リソグラフィと呼ばれる微細加工技術の進歩であり,その中心にあるのが,レジストと言う感光性機能性高分子材料である。本書は,ハイテックを生み出し, その発展を支え続けているレジストを,まずは歴史的に概観し,そのイメージングの機構,評価法,分析法などを,高分子材料として説明する。また,これまでの数年,この先の数年も,化学増幅レジストと呼ばれる高感度,高解像レジストが,開発研究,デバイス生産の中心的存在であるので,その誕生,発展の様子の記述に重点を置く.突破不可能と言われた難関を何回も乗り越え,解像度を50nm以下まで伸ばして来たフォトレジストを年代別に解説し,化学増幅レジストの解像度の限界,将来技術にも言及し,活発な発明,基礎研究,開発努力を通じて電子機器の発展に多大の貢献をし続けているレジスト材料を,図を多用し,平易に解説する。

目次

第1章 リソグラフィ技術による微細加工とレジスト
1.1 レジストとは何か?
1.2 レジストの分類
1.3 レジストに要求される性能と特性評価法

第2章 レジスト材料とリソグラフィ技術の発展の歴史
2.1 架橋ネガ型レジスト
2.2 ポジ型フォトレジスト
2.3 電子線,初期の短波長レジスト
2.4 化学増幅レジスト- 近紫外線から更に短波長への移行
2.5 乾式現像レジスト
2.6 二層レジスト
2.7 解像度向上法

第3章 化学増幅レジスト
3.1 酸触媒反応-増幅の化学
3.2 酸発生剤
3.3 248nm(KrF)レジスト
3.4 193nm(ArF)レジスト
3.5 157nm(F2)レジスト
3.6 電子線レジスト
3.7 EUV,X線レジスト
3.8 乾式,二層レジスト
3.9 新しい材料,新しいプロセス
3.10 化学増幅レジストの解像度の限界
3.11 レジストキャラクタリゼーション,分析法

第4章 現状と将来

第5章 おわりに